| 2005 | 2006 | 2007 | 2008 | 2009 | 2010 | 2011 | 2012 | 2013 | 2014 |

RSS

Учреждение образования «Гомельский государственный университет имени Франциска Скорины» с 2006 г. является членом международной ассоциации «Интер-Академия». В рамках ассоциации «Интер-Академия» между ГГУ им. Ф. Скорины и университетом Сидзуока (Япония) подписан договор о сотрудничестве. В рамках этого договора действует программа получения двойной степени (Double Degree Program): доктора философии (Philosophy Doctor (PhD)) в Японии и кандидата наук в Беларуси.

За прошедшие годы три сотрудника нашего университета прошли подготовку по данной программе и получили степень доктора философии в области физики в университете Сидзуока: Игорь Рязанов в 2011 г. (руководитель с белорусской стороны – Казаченко В.П, с японской – профессор Тетсу Миено), Роман Бекаревич в 2013 г. (руководитель с белорусской стороны профессор Рогачев А.В., с японской - профессор Масааки Нагатсу), Алексей Балмаков в 2013 г. (руководитель с белорусской стороны профессор Семченко И.В., с японской - профессор Масааки Нагатсу).

В настоящее сотрудничество университетов продолжается и с 1 октября 2014 года выпускник магистратуры нашего университета Игорь Александрович Фаняев одновременно обучается в аспирантуре университета Сидзуока на факультете Высшей школы инженерии (Graduate School of Engineering) и аспирантуре ГГУ им. Ф. Скорины (руководитель с белорусской стороны – профессор Семченко И.В., с японской стороны – профессор Вигантас Мизейкис). В течение трех лет Фаняев И.А. будет проводить исследования в университете Сидзуока и ГГУ им. Ф.Скорины на тему «Изготовление трехмерных фотонных метаматериалов методом лазерной литографии».

Презентация доклада Фаняева И.А. о проделанной работе в ГГУ

Профессор В. Мизейкис (слева) и аспирант Фаняев И.А.

Сотрудники лаборатории профессоров Мизейкиса и Оно

Адрес лаборатории Мизейкиса: http://www.grl.shizuoka.ac.jp/~dvmzks/laser_lith/Laser_lithography_laboratory.html

В настоящее время Игорь Фаняев работает над применением передовой техники лазерной литографии для создания микро- и нано-фотонных структур. Лазерная литография позволяет формировать трёхмерный рисунок в фоторезисторе. Эта технология использует нелинейные оптические процессы, такие как двухфотонная фотополимеризации, лазерная абляция или оптический пробой, индуцированный в фокусе лазерного луча для создания фотокартины различных материалов. В результате фоторисования, оптические свойства материалов могут быть сильно модифицированы. Типичными примерами таких новых оптических материалов являются фотонные кристаллы, частотно-селективные поверхности, дифракционные оптические элементы. Используя технику лазерной литографии в лаборатории можно реализовать эти структуры достаточно быстро. Принцип лазерной литографии и некоторые предыдущие результаты, достигнутые в лаборатории профессоров Мизейкиса и Оно с помощью этой техники объясняются на фотографиях ниже.

Применение лазерной литографии в технике нанесения различных материалов

Фотонный кристалл с винтовой структурой, изготовленный методом двухфотонной фотополимеризации в фоторезисте

Частотно-селективные поверхности, изготовленные методом лазерной абляции тонких пленок золота

Дифракционный оптический элемент (решетка Даммана), изготовленный фоторефрактивным методом в ниобате лития

Доказательство присутствия нанокристаллов сверхплотного алюминия в сапфире, облученном фемтосекундными лазерными импульсами

| главная | поиск | карта сайта |